皮膚科 王修含醫生

積體電路版(IC版)與生物晶片(biochip)的關係--
用來生產積體電路版(IC版)的光學微影術(光學蝕刻術，photolithography)，如何應用於製造生物晶片(biochip)？

台大生醫電子與資訊學研究所/皮膚科  王修含 醫師

最早提出以生產積體電路的光學微影術(光學蝕刻術，photolithography)，應用於製造生物晶片(biochip)的創新技術概念者，是Affymetrix公司，用於製造「寡核苷酸陣列」(oligonucleotides microarray)。

原理：
藉由設計光罩(mask)，以紫外線照射，在光罩未阻擋的位置，晶片上的保護基(protecting group X)會因光線的作用而脫離，故可將新的核酸(nucleotide)合成連接上去。
在光罩阻擋之處，保護基不會脫離，所以無法合成連接新的核酸分子。

Affymetrix公司的光蝕刻技術之缺點：
1. 光罩的設計費用昂貴，且設計困難。
2. 每個核酸的合成準確率只有95%，因此只能合成最長25個核酸長度(25 mers)


NimbleGen公司的無光罩技術：
因為Affymetrix公司的技術過於昂貴，因此NimbleGen公司基於類似lithography的概念，提出「無光罩數位微鏡」(maskless digital micromirror)的方法，藉由轉動數位微鏡，使光線照射在不同的位置，得到猶如虛擬光罩的效果，以解決前述的缺點。